LEMBARAN PENGESAHAN
Laporan Praktikum KIimia Fisika di susun oleh:
Nama : Ayuni Yustira
NIM : 1404103010072
JudulPraktikum : ELEKTROPLATING
Di susun untuk memenuhi sebagian dari syarat-syarat mengikuti ujian
final mata kuliah “Praktikum Kimia Fisika” pada Laboratorium
Kimia Fisika.
Darussalam, 20 Oktober 2014
Dosen Pembimbing, Praktikan,
Dr.Ir. Darmadi, M.T Ayuni Yustira
NIP :1966 0323 1993 03 1003 NIM:1404103010072
Koordinator praktikum
Sofyana,
S.T, M.T
NIP : 1971
0626 1998 02 2001
IZIN MELAKUKAN PRAKTIKUM
KIMIA
FISIKA
Kelompok : B-5
Nama / NIM : Karmila / 1404103010046
Regia Khumairah / 1404103010071
Ayuni Yustira
/ 1404103010072
Melaksanakan percobaan di Laboratorium Kimia Fisika
Percobaan : ELEKTROPLATING
Hari /Tanggal : Kamis / 20 Oktober 2015
Pukul : 14.00 WIB
Pembimbing percobaan telah menyetujui
atas penggunaan segala fasilitas di Laboratorium Kimia Fisika untuk melakukan percobaan di atas.
Darussalam, 20 Oktober 2015 Menyetujui,
Pembimbing
Dr.Ir.Darmadi, M.T
NIP : 1966
0323 1993 03 1003
LEMBARAN PENUGASAN
Percobaan : ELEKTROPLATING
Kelompok : B-5
Nama / NIM : Karmila
/ 1404103010046
Regia Khumairah / 1404103010071
Ayuni Yustira
/ 1404103010072
1. Lakukan praktikum sesuai petunjuk praktikum.
2. Gunakan
konsentrasi CuSO4 0,7
; 0,14 dan 0,21 N dengan jumlah baterai 1, 2 dan 3 buah.
3. amati proses
elektrolisa pada waktu
saat 3
menit, 5 menit dan 7 menit.
|
Darussalam, 20
Oktober 2015
Pembimbing
Dr.Ir.Darmadi, M.T
NIP : 1966 0323 1993 03 1003
LEMBARAN DATA
Percobaan : ELEKTROPLATING
Kelompok
: B-5
Nama / NIM : Karmila /1404103010046
Regia
Khumairah / 1404103010071
Ayuni Yustira / 1404103010072
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Darussalam, 20 Oktober 2015
Pembimbing,
Dr.Ir.Darmadi,
M.T
NIP : 1966 0323 1993 03 1003
KATA
PENGANTAR
Puji syukur penyusun panjatkan kehadirat Allah SWT yang telah
memberikan rahmat dan karunianya kepada penyusun sehingga dapat menyelesaikan “
laporan prktikum elektroplating “ pada laboraturium kimia fisika. Shalawat
bernadakan salam penyusun ucapkan keharibaan Nabi Muhammad SAW, Keluarga dan
para sahabat sekalian.
Penyusunan laporan khusus ini merupakan prasyarat
mengikuti ujian final matakuliah “ praktikum kimia fisika “. Dalam penyusunan
laporan ini, saya selaku penulis mengucapkan terima kasih kepada Dr. Ir.
Darmadi, M. T selaku dosen pembimbing,
dan saudara Fahrizal Nasution selaku asisten praktikum ”elektroplating” dan
seluruh rekan - rekan yang telah memberikan masukkan serta nasehat dalam
penyusunan laporan ini.
Semoga laporan ini memberikan manfaat bagi pembaca
sekalian. Atas perhatian saudara, saya ucapkan terima kasih.
Darussalam, 20 Oktober 2015
Penyusun
AYUNI YUSTIRA
DAFTAR ISI
Halaman
LEMBARAN PENGESAHAN..............................................................................................................i
LEMBARAN IZIN MELAKUKAN PRAKTIKUM.........................................................................ii
LEMBARAN PENUGASAN..............................................................................................................iii
LEMBARAN DATA.............................................................................................................................iv
KATA PENGANTAR............................................................................................................................v
DAFTAR ISI.........................................................................................................................................vi
DAFTAR GAMBAR...........................................................................................................................vii
DAFTAR TABEL...............................................................................................................................viii
BAB 1 PENDAHULUAN
1.1 Latar Belakang......................................................................................................................1
1.2 Tujuan Percobaan..................................................................................................................1
BAB II TINJAUAN PUSTAKA
2.1
Korosi....................................................................................................................................2
2.2 Elektroplating........................................................................................................................2
2.3
Elektroda...............................................................................................................................2
2.4 Faktor-faktor yang mempengaruhi
elektroplating.................................................................3
BAB III METODE PERCOBAAN.
3.1 Alat dan
Bahan......................................................................................................................6
3.2 Prosedur
Kerja.......................................................................................................................6
BAB IV HASIL DAN PEMBAHASAN
4.1 Hasil Pengolahan
Data..........................................................................................................7
4.2
Pembahasan...........................................................................................................................8
BAB V KESIMPULAN ......................................................................................................................12
DAFTAR PUSTAKA...........................................................................................................................13
LAMPIRAN A DATA PERHITUNGAN
LAMPIRAN B GAMBAR
LAMPIRAN A DATA PERHITUNGAN
LAMPIRAN B GAMBAR
DAFTAR TABEL
Tabel
4.1 Hasil pengolahan data pada kuat arus 0,071 A.......................................................................7
Tabel
4.1 Hasil pengolahan data pada kuat arus 0,25 A.........................................................................7
Tabel
4.1 Hasil pengolahan data pada kuat arus 0,667 A.......................................................................8
DAFTAR GAMBAR
Halaman
Gambar 4.1 Hubungan
variasi konsentrasi CuSO4 terhadap laju pelapisan Zn......................................9
Gambar 4.2 Hubungan
variasi arus listrik terhadap laju pelapisan Zn.................................................10
Gambar 4.3 Hubungan
variasi waktu terhadap laju pelapisan Zn.........................................................11
Gambar B.1 Hubungan variasi konsentrasi CuSO4
terhadap laju pelapisan Zn
Gambar B.2 Hubungan variasi arus listrik
terhadap laju pelapisan Zn
Gambar B.3 Hubungan variasi waktu terhadap laju
pelapisan Zn
BAB 1
PENDAHULUAN
1.1 Latar Belakang
Kehidupan masyarakat modern tidak bisa terlepas dari benda-benda yang
dibuat dengan proses plating. Teknologi plating atau lebih dikenal dengan
pelapisan logam telah berkembang dengan pesat di dunia. Komponen dan aksesoris
kendaraan bermotor, aksesoris mebel, kursi lipat, berbagai alat perkantoran,
alat-alat pertanian, jam tangan, aksesoris rumah tangga dan berbagai alat-alat industri
sebagian kecil dari produk plating. Masyarakat umum lebih mengenal
istilah-istilah veerzinc, veernikel, veerchrom untuk pelapisan seng, nikel
maupun khrom daripada istilah electroplating, sehingga bila kita membicarakan
hal electroplating masih banyak yang belom memahami dengan jelas. Sedangkan
istilah baku yang dipakai utnuk elektroplating adalah lapis listrik.
Semua produk yang dihasilkan oleh proses
industri harus mempunyai kualitas yang baik dari segi apapun. Tuntutan ini
harus diiringi dengan faktor-faktor pendukung dan berkualitas pula. Salah satu
faktor pendukungnya adalah bahan dasar yang digunakan untuk menghasilkan produk
harus disesuaikan dengan kondisi temperatur yang dibutuhkan untuk proses serta
memiliki ketahanan terhadap korosi. Korosi sangat rentan terjadi pada alat-alat
yang terbuat dari logam. Korosi dapat memperpendek umur suatu peralatan
khususnya yang terbuat dari logam. Inilah masalah utama yang menurunkan
kualitas suatu produk.
Suatu ide atau pemikiran akan muncul
setelah adanya masalah, berdasarkan pepatah inilah maka masalah diatas dapat
ditemukan jalan keluarnya. Salah satu usaha yang dilakukan untuk mengantisipasi
hal tersebut adalah dengan pelapisan logam (electroplating), yaitu proses
pelapisan logam secara elektrokimia yang bertujuan untuk memberikan
perlindungan dan memberikan sifat-sifat yang lebih baik dari logam.
1.2 Tujuan Percobaan
Percobaan
ini bertujuan untuk melihat laju pelapisan Cu terhadap Zn dan pengaruhnya
terhadap perbedaan konsentrasi elektrolit, arus listrik dan waktu pelapisan.
BAB II
TINJAUAN
PUSTAKA
2.1 Korosi
Korosi
merupakan proses elektro kimiawi dua macam metal yang berbeda potensial
dihubungkan langsung didalam elektrolit sama. Dimana elektron mengalir dari
metal kurang mulia (anodik) menuju metal yang lebih mulia (katodik), akibatnya
metal yang kurang mulia berubah menjadi ion-ion positif karena kehilangan
elektron. Ion-ion positif metal bereaksi dengan ion negatif yang berada didalam
elektrolit menjadi garam metal. Karena peristiwa tersebut, permukaan anoda
kehilangan metal sehingga terbentuklah serangan karat permukaan. Sel gavani
tidak berhubungan langsung walaupun keduanya berada didalam elektrolit yang
sama. Standar elektro ini dapat berubah akibat pengaruh perubahan suhu,
perubahan elektroda, kotoran atau sampah pada elektroda dan lain-lain (Suarsana,
2008).
Korosi
logam merupakan salah satu masalah yang paling penting yang di hadapi oleh
kelompok industri maju. Pengaruh korosi dapat terlihat pada pembentukan karat
pada permukaan besi. Korosi dapat di gambarkan sebagai sel gavani yang
mengalami hubungan pendek. Karat terbentuk pada katoda dan lubang terjadi pada
anoda.
Faktor
yang mempercepat korosi:
1.
Garam yang larut menghasilkan sebuah elektrolit
yang menaikkan aliran muatan menuju larutan.
2.
Keasaman yang tinggi.
Teknik
pencegahan korosi antara lain:
1.
Pelapisan permukaan dengan suatu lapisan tidak
tertembuskan. Contohnya cat dapat mencegah masuknya udara lembab.
2.
Dilakukan dengan galvanisasi (elektroplating).
Contohnya pelapisan benda besi dengan Zn.
3.
Mengubah potensial objek dengan memompakan
electron guna memenuhi kebutuhan reduksi oksigen, tanpa melibatkan oksidasi
logam.
(David
W. Oxtoby, 2001)
2.2 Elektroplating
Elektroplating
atau lapis listrik merupakan salah satu proses pelapisan bahan padat dengan
lapisan logam menggunakan arus listrik melalui suatu larutan elektrolit.
Larutan yang digunakan harus sesuai dengan bahan yang digunakan untuk menyepuh
yang dipasang sebagai anoda. Jika akan menyepuh benda dengan krom maka larutan
elektrolitnya adalah asam kromat (H2CrO4) (Sutresna,
2008).
Elektroplating (penyepuhan) adalah proses pelapisan logam dengan
logam yang lebih tipis melalui prinsip bahwa logam yang akan disepuh
diperlakukan sebagai katoda, dan logam penyepuh diperlakukan sebagai anoda.
Dalam penyepuhan, kedua elektroda dimasukkan dalam larutan elektrolit, yaitu
larutan yang mengandung ion logam penyepuh. Elektroplating juga dapat
didefinisikan sebagai pelapisan logam pada benda padat konduktif dengan bantuan
arus listrik. Jika akan menyepuh benda dengan krom, maka anoda yang digunakan
adalah krom dan larutan elektrolit adalah asam kromat (H2CrO4).
Jika elektroplating perak, tentu perak sebagai anoda dan larutannya adalah
perak nitrat. Pada elektroplating maka logam dasar seperti besi, tembaga,
kuningan, seng, dan aluminium dilapisi oleh berbagai variasi logam yang
kebanyakan adalah tembaga, nikel,
kromium, seng dan cadmium juga beberapa logam mulia seperti perak, emas,
rhodium, paladium dan platinum (Rahayu, 2009).
Dalam
mempelajari proses elektrolisis didasarkan oleh hukum faraday yang meliputi:
1.
Massa zat tertentu yang dihasilkan atau dipakai
pada suatu elektroda, berbanding lurus
dengan jumlah muatan listrik yang melalui sel.
2.
Massa 1 ekivalen zat yang dihasilkan atau
dipakai pada elektroda dengan melewatkan sejumlah tertentu muatan listrik
melalui sel (sutresna, 2006).
2.3 Elektroda
Ada 2 jenis
elektroda yang di gunakan dalam proses elektrolisis, diantaranya:
1.
Anoda
Pada sel elektrolisis sumber eksternal tegangan
di dapat dari luar sehingga anoda bermuatan positif.
2.
Katoda
Katoda pada sel elektrolisis adalah elektroda
yang bermuatan negatif, karena ion-ion positif mengalir ke elektroda lain.
2.4 Faktor-faktor
yang mempengaruhi proses elektroplating
Adapun
faktor-faktor yang mempengaruhi elektroplating diantaranya adalah Konsentrasi
elektrolit, temperatur, pengaruh logam dasar, arus listrik dan waktu pelapisan.
2.4.1 Konsentrasi
Elektrolit
Pengaruh
konsentrasi elektrolit dengan arus saling berhubungan erat. Dengan penambahan
konsentrasi larutan, arus yang tinggi dapat digunakan untuk menambah besarnya
pelapisan. Kenaikan konsentrasi larutan akan mencegah kekosongan ion-ion didekat katoda sehingga terbentuk pelapisan
yang lebih baik.
Larutan
dengan konsentrasi yang lebih tinggi mengandung partikel-partikel yang lebih rapat.
Kerapatan ini menyebabkan partikel mudah bertumbukan sehingga semakin banyak
elektron yang berpindah dari anoda ke katoda. Konsentrasi larutan elektrolit
adalah salah satu faktor yang mempengaruhi proses elektroplating (Arifin, 2003).
Dengan
demikian semakin tinggi konsentrasi larutan elektrolit, maka semakin besar laju
pelapisannya.
2.4.2
Temperatur
Kenaikan
temperatur akan menyebabkan meningkatnya laju korosi dan difusi ion-ion ke
katoda. Hali ini mencegah terjadinya pelapisan yang tidak merata yang di
sebabkan adanya kekosongan ion-ion pada katoda. Secara umum, temperatur yang
sesuai cenderung meningkatkan kualitas pelapisan.
2.4.3
Pengaruh Logam Dasar
Salah
satu faktor yang penting dalam pembentukan endapan plating adalah besar
potensial elektroda logam plating itu sendiri. Cu memiliki besar potensial
+0,304 sedangkan Zn memiliki besar potensial -0,762.
2.4.4
Arus Listrik
Pada
proses plating yang kerapatan arusnya rendah, laju pelapisan ion-ion menjadi
lambat, sehingga laju pertumbukan dasar kristal akan melewati laju pembentukan
ion-ion baru. Hal ini membuktikan bahwa semakin besar kuat arus yang di berikan
pada saat pelapisan maka semakin besar pula laju pelapisannya. Hal ini sesuai
dengan Hukum faraday yang menyatakan massa zat tertentu yang dihasilkan atau
dipakai pada suatu elektroda berbanding lurus dengan jumlah muatan listrik yang
melalui sel (David W. Oxtoby, 2001).
2.4.5
Waktu Pelapisan
Semakin
lama waktu pelapisan maka semakin besar pula laju pelapisannya. Hal ini terjadi
krena semakin lama waktu, semakin banyak elektron-elektron yang tereduksi dari
anoda ke katoda.
BAB III
METODE
PERCOBAAN
3.1 Alat dan
Bahan
3.1.1 Alat:
1.
Logam Cu dan Zn
2.
Sumber arus
3.
Gelas kimia
4.
Stopwatch
5.
Multimeter
6.
Kertas amplas
7.
Labu ukur
8.
Timbangan
3.1.2
Bahan:
1.
CuSO4.5H2O
2.
Aquadest
3.2
Prosedur Kerja
1.
Dibuat larutan CuSO4 dengan berbagai
konsentrasi, yaitu 0,7 N; 0,14N dan 0,21 N.
2.
Dibersihkan logam Cu dan Zn dengan amplas.
3.
Ditimbang logam Cu dan Zn sebelum dilakukan
proses elektroplating dan di catat beratnya.
4.
Dihubungkan logam Cu dan Zn dengan penjepit
yang telah dihubungkan dengan sumber arus. Logam Cu dihubungkan dengan kutub
positif dan logam Zn dihubungkan dengan kutub negatif.
5.
Kedua logam yang telah dijepit, di celupkan ke
dalam larutan CuSO4 dalam gelas kimia.
6.
Dialirkan arus listrik (0,071 A; 0,25 A dan
0,667 A) lalu cek voltase dengan multimeter.
7.
Didiamkan selama waktu 3 menit, 5 menit dan 7
menit.
8.
Dimatikan arus listrik, lalu diambil kedua
logam dan dikeringkan.
9.
Ditimbang dan dicatat berat kedua logam setelah
proses elektroplating.
10. Diulangi
percobaan dengan konsentrasi yang lain.
BAB IV
HASIL
DAN PEMBAHASAN
4.1 Hasil Pengolahan Data
Tabel 4.1.1 Hasil pengolahan data pada kuat
arus 0,071 A
Waktu
(s)
|
[CuSO4](N)
|
Berat
aktual
|
Berat
teoritis
|
Efisiensi
pelapisan
(%)
|
||
Cu
(gr)
|
Zn
(gr)
|
Cu
(gr)
|
Zn
(gr)
|
|||
180
|
0,7
|
0,0234
|
0,016
|
0,0042
|
0.0043
|
3,71
|
0,14
|
0,0194
|
0,018
|
4,18
|
|||
0,21
|
0,0214
|
0,015
|
3,48
|
|||
300
|
0,7
|
0,0274
|
0,026
|
0,007
|
0,0072
|
3,6
|
0,14
|
0,0294
|
0,022
|
3,04
|
|||
0,21
|
0,0324
|
0,029
|
4,02
|
|||
420
|
0,7
|
0,0198
|
0,0239
|
0,0098
|
0,101
|
3,5
|
0,14
|
0,0188
|
0,0149
|
4,6
|
|||
0,21
|
0,0568
|
0,0182
|
1,9
|
|||
Tabel 4.1.2 Hasil pengolahan data pada kuat
arus 0,25 A
Waktu
(s)
|
[CuSO4 ] (N)
|
Berat
aktual
|
Berat
teoritis
|
Efisiensi
pelapisan
(%)
|
||
Cu
(gr)
|
Zn
(gr)
|
Cu
(gr)
|
Zn (gr)
|
|||
180
|
0,7
|
0,0244
|
0,023
|
0,0148
|
0,0152
|
1,49
|
0,14
|
0,0264
|
0,025
|
1,62
|
|||
0,21
|
0,0284
|
0,027
|
1,76
|
|||
300
|
0,7
|
0,0384
|
0,037
|
0,0246
|
0,0254
|
1,43
|
0,14
|
0,0404
|
0,046
|
1,78
|
|||
0,21
|
0,0424
|
0,041
|
1,58
|
|||
420
|
0,7
|
0,0235
|
0,0272
|
0,0345
|
0,0356
|
0,72
|
0,14
|
0,0309
|
0,0092
|
0,22
|
|||
0,21
|
0,0319
|
0,0421
|
1,1
|
|||
Tabel 4.1.3 Hasil pengolahan data pada kuat
arus 0,667 A
Waktu
(s)
|
[CuSO4 ](N)
|
Berat
aktual
|
Berat
teoritis
|
Efisiensi
pelapisan
(%)
|
||
Cu
(gr)
|
Zn
(gr)
|
Cu
(gr)
|
Zn
(gr)
|
|||
180
|
0,7
|
0,0294
|
0,028
|
0,0407
|
0,0407
|
0,64
|
0,14
|
0,0324
|
0,031
|
0,72
|
|||
0,21
|
0,0354
|
0,034
|
0,79
|
|||
300
|
0,7
|
0,0534
|
0,052
|
0,0679
|
0,0679
|
0,69
|
0,14
|
0,0554
|
0,054
|
0,72
|
|||
0,21
|
0,0584
|
0,057
|
0,77
|
|||
420
|
0,7
|
0,0423
|
0,05
|
0,0950
|
0,0950
|
0,43
|
0,14
|
0,0408
|
0,058
|
0,51
|
|||
0,21
|
0,0435
|
0,066
|
0,59
|
|||
4.2 Pembahasan
Proses
elektroplating pada dasarnya sama dengan pemurnian logam secara elektrolisis.
Pada proses elektroplating reaksi tidak dapat berjalan secara spontan sehingga
memerlukan energyi listrik agar proses dapat berlangsung. Energi yang dipergunakan
pada proses elektroplating berasal dari arus listrik searah. Pada proses
electroplating terjadi transfer energi dari energi listrik menjadi energi kimia
dan terjadi transfer elektron dari anoda ke katoda. Pada anoda terjadi reaksi
oksidasi, sedangkan pada katoda terjadi reaksi reduksi (Handayani, 2003).
Elektroplating
dibuat dengan jalan mengalirkan arus listrik melalui larutan antara logam atau
material lain yang lebih konduktif. Dua buah plat logam merupakan anoda dan
katoda dihubungkan pada kutub positive dan negative terminal sumber arus searah
(DC). Logam yang terhubung dengan kutub posoitive disebut anoda dan logam yang
terhubung dengan kutub negative disebut katoda. Ketika sumber tegangan
digunakan pada elektrolit, maka kutub positive mengeluarkan ion bergerak dalam
larutan menuju katoda dan disebut sebagai kation. Kutub negatif juga mengeluarkan ion, bergerak menuju anoda
dan disebut anion (Purwanta, 2005).
Arus
listrik menjadi sangat penting pada proses elektroplating, dikarenakan perbedaan
potensial dari dua elektroda tersebut ditimbulkan dengan adanya aliran arus
listrik tersebut. Berbeda dengan proses yang terjadi pada proses sel gavani
yang terjadi secara spontan, pada elektroplating ini potensial total yang
dihasilkan adalah minus, sehingga keadaan harus dipaksakan agar nilai potensial
totalnya menjadi plus, salah satunya dengan bantuan arus listrik.
Pada
percobaan ini yang bertindak sebagai anoda adalah Cu sedangkan yang bertindak
sebagai katoda adalah Zn. Hal ini disebabkan karena Cu lebih reduktor
dibandingkan dengan Zn, dengan kata lain, daya oksidasi Cu lebih besar dari
pada Zn. Berdasarkan data yang di peroleh ketika praktikum dapat dilihat bahwa
logam yang dilapisi beratnya bertambah, sedangkan logam yang melapisi beratnya berkurang.
Logam yang dilapisi pada percobaan ini adalah Zn sedangkan yang melapisi adalah
Cu.
4.2.1
Pengaruh Konsentrasi Larutan Terhadap Laju Pelapisan
Konsentrasi dari larutan elektrolit
yang di gunakan pada proses pelapisan memiliki pengaruh, yaitu semakin besar
konsentrasi larutan elektrolit tersebut, maka penambahan berat Zn juga semakin
besar, secara visual pengaruh konsentrasi ini dapat di lihat pada Gambar 4.1
Gambar
4.1 Hubungan variasi konsentrasi CuSO4 terhadap laju pelapisan Zn
Gambar 4.1 menunjukkan bahwa berat
Zn semakin bertambah seiring dengan meningkatnya konsentrasi. Pada konsentrasi
0,21 N berat Zn yang bertambah adalah 0,02 gram sedangkan pada konsentrasi 0,14
N berat Zn yang bertambah 0,030 gram, pertambahan yang paling besar yaitu pada
konsentrasi paling tinggi 0,7 N yaitu 0,057 gram. Demikian secara umum
konsentrasi berpengaruh terhadap laju pelapisan, hal ini sesuai dengan hukum
faraday bahwa semakin besar konsentrasi maka semakin cepat pula laju pelapisan
karena semakin bereaksi dan Cu semakin cepat melapisi Zn.
4.2.2
Pengaruh Kuat Arus Terhadap Laju Pelapisan
Semakin besar arus yang digunakan
maka laju pelapisan logam Zn juga semakin besar, hal ini dikarenakan semakin
besar arus yang mengalir, maka semkain banyak pula elektron-elektron yang
mengalir, maka semakin banyak pula elektron-elektron yang berpindah dari anoda
menuju katoda. Pengaruh ini dapat dilihat pada Gambar 4.2
Gambar
4.2 Hubungan variasi arus listrik terhadap laju pelapisan Zn
Gambar 4.2 menunjukkan bahwa berat
Zn terus bertambah seiring dengan meningkatnya kuat arus, namun sebaliknya
berat Cu semakin berkurang. Hal ini terlihat pada kuat arus 0,071 A penambahan
berat Zn yang terjadi adalah 0,016 gram, pada kuat arus listrik 0,25 A
penambahan berat Zn menjadi 0,025 gram, pertambahan berat Zn yang paling tinggi
terjadi pada kuat arus 0,667 A yaitu 0,028 gram. Hal ini sesuai dengan teori
faraday yaitu laju pelapisan sebanding dengan berat ekivalen dikali kuat arus
dikali waktu (lama pelapisan) dibagi dengan nilai faraday 96500 atau secara
rumus W = (e.i.t) / 96500.
4.2.3
Pengaruh Waktu Terhadap Laju Pelapisan
Waktu yang digunakan dalam proses
pelapisan, juga mempengaruhi hasil berat yang diperoleh, namun juga grafik
perbandingan ada yang tidak searah, hal tersebut terjadi karena besar
kemungkinan arus yang mengalir dalam waktu yang lama akan mengalami penurunan,
karena pemakaian yang lama dan berulang-ulang, akan mengalami penurunan kuat
arus karena daya pada baterai telah berkurang karena pemakaian terus-menerus.
Pengaruh waktu terhdap laju pelapisan dapat dilihat pada Gambar 4.3
Gambar
4.3 Hubungan variasi waktu terhadap laju pelapisan Zn
Gambar 4.3 menunjukkan bahwa semakin
lamanya waktu yang digunakan pada proses pelapisan, maka semakin besar pula
pelapisan logam Cu terhadap Zn. Hal ini terlihat pada waktu 180 detik penambahn berat Zn adalah 0,025 gram
sedangkan pada waktu 300 detik penambahan berat Zn adalah 0,037 gram,
pertambahan berat Zn yang paling besar terjadi pada waktu 420 detik yaitu
0,0272 garm. Demikian secara umum waktu berpengaruh terhadap laju pelapisan Zn,
Hal ini sesuai dengan hukum faraday yang menyatakan massa zat tertentu yang
dihasilkan atau dipakai pada suatu elekttroda berbanding lurus dengan waktu
yang diinginkan.
4.1.4
Persen Kesalahan
Persen kesalahan menunjukkan tingkat
kesalahan dari laju pelapisan yang di peroleh dari percobaan terhadap laju
pelapisan dari teoritis. Persen kesalahan sendiri diperoleh dari perhitungan
yang dapat dilihat pada lampiran A perhitungan.
Persentase
kesalahan pada logam Cu adalah 0,57 % sedangkan kesalahan pada logam Zn adalah
3,71 %. Hal ini disebabkan karena kurang ketelitian dalam penimbangan, maupun
juga faktor ketelitian alat yang kurang baik.
BAB V
KESIMPULAN
Dari
praktikum yang telah dilakukan, dapat diambil beberapa kesimpulan sebagai
berikut:
1.
Semakin besar konsentrasi maka semakin cepat
pula laju pelapisan karena semakin bereaksi dan Cu semakin cepat melapisi Zn.
Hal ini terbukti pada konsentrasi 0,21 ; 0,14 dan 0,7 N berat pelapisannya
berturut-turut adalah 0,019 ; 0,068 dan 0,083 gram.
2.
Berat Zn terus bertambah seiring dengan
meningkatnya kuat arus, namun sebaliknya berat Cu semakin berkurang. Hal ini
dapat dilihat pada kuat arus 0,0714 ; 0,25 dan 0,667 A berat pelapisn yang
didapat masing-masing adalah 0,0016 ; 0,0053 dan 0,0071 gram.
3.
Semakin lamanya waktu yang digunakan pada
proses pelapisan, maka semakin besar pula pelapisan logam Cu terhadap Zn. Hal
ini dapat dilihat pada waktu 180 ; 300 dan 420 sekon berat pelapisan yang
didapat masing-masing adalah 0,017 ; 0,059 dan 0,085 gram.
DAFTAR
PUSTAKA
Arifin,
B., 2003. Diktat Kuliah Kimia Fisika.Fakultas Teknik,Jurusan Teknik Kimia,Universitas Syiah Kuala.
Handayani,
P., 2003. Pengaruh Pengadukan, Tegangan Listrik Dan Waktu Terhadap Penurunan Konsentrasi
Kromium Pada Elektroplating, Skripsi, Fakultas
Teknik, Jurusan Teknik Kimia, universitas Syiah Kuala.
Oxtoby,
David. W. Gilis. H. P. Nathtriech. N. H., 2001. Prinsip-Prinsip Kimia Modern
Edisi 4 Jilid 1. Jakarta; Erlangga.
Purwanta
dan Syamsul Huda. 2005. Teknologi Industri Elektroplating. Diponegoro; Badan Penerbit Universitas.
Rahayu, Setyo
W., 2009. Proses Elektroplating Tembaga,
Nikel dan Khrom. Jakarta;
Erlangga.
Suarsana,
I ketut., 2008. Pengaruh Waktu Pelapisan Nikel Pada Tembaga Dalam Pelapisan Khrom Dekoratif Terhadap
Tingkat Kecerahan dan Ketebalan Lapisan,
Jurnal Ilmiah, Fakultas Teknik, Jurusan Teknik Mesin, Universitas Udayana, Jimbaran Bali
Sutresna,
N., 2006. Kimia. Grafindo Media
Pratama; Bandung
